ارزیابی کاشت یون

Ion Implanter Evaluator

برنامه ارزیابی کاشت یون، طراحی سیستم کاشت یونی را در نظر می‌گیرد. کاشت یون به طور گسترده در صنعت نیمه‌هادی مورد استفاده قرار می‌گیرد تا دوپانت‌ها را به ویفرها بپیوندد.
در یک کاشت یونی، یون‌های تولیدشده در یک منبع یون توسط یک میدان الکتریکی شتاب می‌یابند تا به انرژی کاشت مورد نظر برسند. یون‌های حالت شارژ صحیح با استفاده از آهنربای جداسازی انتخاب می‌شوند، که پرتو یون را خم کرده تا اطمینان حاصل شود یون‌های با نسبت بار به جرم خاص تنها مواردی هستند که به ویفر می‌رسند. دوز انرژی و زاویۀ پرتوی یونی هر دو پارامتر اصلی این فرایند هستند.
این برنامه به کاربر اجازه می‌دهد تا زاویۀ ویفر و همچنین وزن مولکولی گونه‌های طغیان‌آور، میزان سرعت و دمای سطح را تغییر دهد. سرعت پمپ کرایو و توربو نیز قابل تنظیم است.
چگالی تعداد، فشار، شار مولکولی و همچنین چگالی عددی متوسط در طول خط پرتو را می‌توان مشاهده کرد.