رسوب مس در یک ترانشه
Copper Deposition in a Trench
این مدل استفاده از مش های متحرک را در استفاده از رسوب الکتریکی مس بر روی تخته های مدار نشان می دهد. در این محیط‌ها وجود حفره‌ها یا ترانشه‌ها مشهود است.
این مدل از رابط سوم، Nernst-Planck برای رسوب الکتریکی برای پیگیری تغییر شکل مش استفاده می کند. علاوه بر این، سینتیک واکنش الکتروشیمیایی با استفاده از معادله باتلر-ولمر برای رسوب مس آزادانه در مرزها وارد می شود.
این مدل ذاتاً وابسته به زمان است و نتایج به وضوح نشان می دهد که دهانه ترانشه به دلیل رسوب غیر یکنواخت مس باریک می شود. علاوه بر این، شبیه‌سازی تغییرات قابل‌توجهی در غلظت یون مس در طول ترانشه نشان می‌دهد. چنین اثراتی می تواند برای کیفیت رسوب مضر باشد، احتمال خوردگی ایجاد کند و منجر به ضایعات مواد شود.
https://www.comsol.com/model/copper-deposition-in-a-trench-2112
این لینک با استفاده از VPN باز می شود.