5/5 - (2 امتیاز)
پپروژه آماده کامسول comsol

حکّاکی شیمیایی

Chemical Etching

این مثال اصل حکّاکی شیمیایی مرطوب را برای هندسه دوبعدی تحت جریان لایه ای نشان می دهد. هدف از این آموزش بررسی نحوه استفاده از مواد زیرساختی مس و چگونگی شکل حفره در طی روند حکّاکی مرطوب است. حکّاکی مرطوب برای صنایع میکرو الکترونیک و برای الگویی از مدارهای مجتمع، دستگاه¬های MEMS، اپتوالکترونیک و حسگرهای فشار بسیار مهم است. فرآیندهای رطوبت از اکسیدان¬های محلول (“مرطوب”) استفاده می¬کنند، در حالیکه زیرساختی که باید تراشیده شود، در یک جریان کنترل شده از حکّاک غوطه¬ور می¬شود.

خرید بسته آموزش کامسول