حکّاکی شیمیایی
Chemical Etching
این مثال اصل حکّاکی شیمیایی مرطوب را برای هندسه دوبعدی تحت جریان لایهای نشان میدهد. هدف از این آموزش بررسی نحوه استفاده از مواد زیرساختی مس و چگونگی شکل حفره در طی روند حکّاکی مرطوب است. حکّاکی مرطوب برای صنایع میکرو الکترونیک و برای الگویی از مدارهای مجتمع، دستگاههای MEMS، اپتوالکترونیک و حسگرهای فشار بسیار مهم است. فرآیندهای رطوبت از اکسیدانهای محلول (“مرطوب”) استفاده میکنند، در حالیکه زیرساختی که باید تراشیده شود، در یک جریان کنترل شده از حکّاک غوطهور میشود.
دانلود فایلهای مرتبط
حکّاکی شیمیایی (فایل)
1 file(s) 1.48 MB