برنامه ارزیابی کاشت یون، طراحی سیستم کاشت یونی را در نظر می‌گیرد. کاشت یون به طور گسترده در صنعت نیمه‌هادی مورد استفاده قرار می‌گیرد تا دوپانت‌ها را به ویفرها بپیوندد.

سیستم‌های خلاء پمپ‌شده با استفاده از یک دهانه یا لولۀ کوچک برای اتصال دو قسمت از سیستم خلاء که در فشارهای بسیار متفاوتی قرار دارند استفاده می‌کنند. چنین سیستم‌هایی هنگامی که فرایندها با فشارهای بالاتر اجرا شوند ضروری بوده و توسط آشکارسازهایی که برای بهره‌برداری نیاز به UHV دارند، مورد نظارت قرار می‌گیرند.

تغییرات تراکم می‌تواند جریان را حتی در یک سیال ساکن هم آغاز کند. در سیستم‌های زمینی، تغییرات چگالی می‌تواند ناشی از نمک‌های طبیعی، تغییرات درجه حرارت زیرسطحی یا آلودگی انتقال باشد. این جریان‌های شناور یا چگالی محرک به حرکت سیال در سیستم‌های دریاچه نمک، حوضه‌های دفع شوری، ستون‌های آلوده و شسته شدۀ متراکم، و مخازن زمین گرمایی، اشاره کرده که بیانگر نام معدودی از آن‌ها است.