تشکیل دندریت کنترل شده با انتشار با استفاده از روش مجموعه سطح

تشکیل دندریت کنترل شده با انتشار با استفاده از روش مجموعه سطح – Diffusion-Controlled Dendrite Formation Using the Level Set Method

5/5 - (1 امتیاز)

مدل حاضر نشان می‌دهد که رسوب الکتریکی مس با انتشار کنترل شده بر روی آرایه‌های الکترود نواری ریزساختار (MEA) است. انتقال جرم با انتشار فیکی یون های مس با استفاده از رابط حمل و نقل گونه های رقیق حل شده است. تشکیل دندریت به عنوان یک نتیجه از رسوب الکتریکی کنترل شده با انتشار با استفاده از رابط سطح مجموعه گرفته شده است. سرعت رسوب الکتریکی بر حسب شار انتشاری در مدل تجویز می‌شود. در مقایسه با الکترودهای داخلی در MEA، تشکیل دندریت برای الکترود محیطی در MEA غالب تر است.

اثرات جریان فواره بر روی رسوب الکتریکی در یک ویفر در حال چرخش

اثرات جریان فواره بر روی رسوب الکتریکی در یک ویفر در حال چرخش – Fountain Flow Effects on Electrodeposition on a Rotating Wafer

5/5 - (1 امتیاز)

این مثال تجزیه و تحلیل انجام شده در مدل Electrodeposition بر روی یک ویفر با الگوی مقاومتی را با گنجاندن انتشار و همرفت یون‌های مس در الکترولیت گسترش می‌دهد.

اثرات انتقال جرم همراه انتقال همرفت – انتشار در این نوع راکتور مورد توجه است زیرا آنها به سمت لبه ویفر برجسته می شوند و چگالی جریان را محدود می کنند. این باعث تعادل مازاد پتانسیل فعال‌سازی می‌شود که به دلیل اثرات هدایت جریان الکتریکی در ویفر در لبه بالاترین حد است. با طراحی راکتور، رابطه بین انتقال جرم و اثرات پتانسیل فعال سازی را می توان بهینه کرد تا توزیع جریان روی ویفر یکنواخت تر شود.

رسوب آلیاژی

رسوب آلیاژی – Alloy Deposition

5/5 - (1 امتیاز)

کدگذاری الکتروشیمیایی یک روش رایج کم هزینه برای تولید آلیاژهای فلزی است. این مدل آموزشی رسوب الکتریکی یک آلیاژ نیکل (Ni)-فسفر (P) را نشان می دهد.

سلول بدنه سیلندر دوار

سلول بدنه سیلندر دوار – Rotating Cylinder Hull Cell

5/5 - (1 امتیاز)

سلول‌های بدنه سیلندر چرخشی یک ابزار آزمایشی مهم در آبکاری و رسوب الکتریکی هستند و برای اندازه‌گیری توزیع غیریکنواخت جریان، انتقال جرم و قدرت پرتاب حمام‌های آبکاری استفاده می‌شوند. این مدل نتایج را برای یک سلول تجاری موجود (RotaHull (R)) همانطور که در مقاله منتشر شده است، تولید می کند [۱]. به طور خاص، توزیع جریان اولیه، ثانویه و سوم را در امتداد الکترود و همچنین انتشار مس در لایه منتشر در اطراف کاتد بررسی می‌کند.

رسوب الکتریکی یک سیم پیچ سلف

رسوب الکتریکی یک سیم پیچ سلف – Electrodeposition of an Inductor Coil

5/5 - (1 امتیاز)

این مثال رسوب یک سیم پیچ سلف را به صورت سه بعدی مدل می کند. هندسه شامل اکستروژن الگوی رسوب به یک ماسک مقاوم نوری جداکننده و یک لایه انتشار در بالای مقاومت نوری است.

رسوب الکتریکی یک برآمدگی میکروکانکتور با هندسه تغییر شکل در سه بعدی

رسوب الکتریکی یک برآمدگی میکروکانکتور با هندسه تغییر شکل در سه بعدی – Electrodeposition of a Microconnector Bump with Deforming Geometry in 3D

5/5 - (1 امتیاز)

این مدل تکامل شکل یک برآمدگی میکروکانکتور را در طول زمان به عنوان رسوب مس روی سطح الکترود شبیه‌سازی می‌کند. انتقال یون مس در الکترولیت از طریق همرفت و انتشار انجام می شود. سینتیک الکترود با بیان باتلر-ولمر وابسته به غلظت توصیف می‌شود.

رسوب بدون الکترو مس

رسوب بدون الکترو مس – Copper Electroless Deposition

5/5 - (1 امتیاز)

رسوب یا آبکاری الکترولس یک روش آبکاری غیر گالوانیکی است که نیازی به نیروی الکتریکی خارجی ندارد. این روش معمولاً برای آبکاری الکترولس نیکل، نقره، طلا و مس استفاده می شود.

آبکاری تخته مدار چاپی

آبکاری تخته مدار چاپی – Electroplating of a Printed Circuit Board

5/5 - (1 امتیاز)

این مثال آبکاری یک برد مدار چاپی (PCB) را به صورت سه بعدی با استفاده از رابط توزیع جریان ثانویه شبیه سازی می کند. به منظور دستیابی به یکنواختی ضخامت در سراسر PCB، یک الگوی ساختگی به همراه یک روزنه در حمام آبکاری در طراحی گنجانده شده است.

آبکاری معکوس پالس

آبکاری معکوس پالس – Pulse Reverse Plating

5/5 - (1 امتیاز)

این آموزش نشان می دهد که چگونه آبکاری معکوس پالس می تواند به عنوان جایگزینی بدون افزودنی برای کاهش برجستگی های کوچک در طول رسوب فلز مس استفاده شود. با تطبیق پارامترهای فرآیند، از جمله طول پالس های رو به جلو و معکوس (چرخه های وظیفه)، می توان یک سطح فلزی آینه مانند روشن ایجاد کرد.

آندایزاسیون آلومینیوم

آندایزاسیون آلومینیوم – Aluminum Anodization

5/5 - (1 امتیاز)

هنگام آنودایز کردن آلومینیوم، سطح به صورت الکتروشیمیایی تغییر می یابد تا یک فیلم Al2O3 ساینده و مقاوم در برابر خوردگی تشکیل شود. سینتیک الکترود در طول فرآیند تنها با رشد لایه اکسید به طور جزئی تحت تأثیر قرار می گیرد، بنابراین یک تجزیه و تحلیل ثابت از توزیع جریان برای تعیین یکنواختی ضخامت این لایه کافی است.

خرید بسته آموزش کامسول